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Des filtres photo-lithographiques sont utilisés dans les applications incluant des steppers LSI et LCD dans lesquels des lampes de vapeur de mercure de haute puissance sont utilisées pour l‘illumination. Les filtres passe-bande à bande très étroites produisent un rayonnement presque monochromatique. Ceci permet d’obtenir la meilleure résolution possible pouvant être réalisée dans la cible.

Le partenaire de LASER COMPONENTS, Omega Optical, a remis à jour ses filtres passe-bande de la gamme i-line. Ce concept de filtres est maintenant disponible sur la base d’un revêtement réalisé par réactif de pulvérisation à double magnétron. Ceci améliore de manière significative l‘intensité du i-line et son homogénéité dans le processus photo-lithographique.

A noter un nouveau produit chez Omega qui est particulièrement intéressant pour la production de MEMS: MicroChem, le fabricant du SU-8 photo-résistif, recommande d’utiliser un rayonnement UV bloqué en-dessous de 350 nm afin de produire des structures perpendiculaires particulières. À cet effet, le PL-360-LP dans la série des dispositifs d‘alignement de masques peut être particulièrement recommandé!

Tous ces filtres sont fournis par LASER COMPONENTS.

Further product information:
Filtres photolithographiques

Manufacturer:
Omega Optical

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