Fotolithographische Filter kommen bei Anwendungen in LSI und LCD Steppern zum Einsatz, bei denen Hochleistungs-Quecksilberdampflampen für die Belichtung eingesetzt werden. Die sehr schmalbandigen Bandpassfilter erzeugen eine quasi-monochromatische Strahlung. Hierdurch wird auf dem Target die bestmögliche Auflösung erreicht.

Neue i-line Bandpassfilter
Unser Partner Omega Optical hat seine i-line Bandpassfilter überarbeitet. Die Filterdesgins werden nun auch auf Basis der Dual Magnetron Reactive Sputtering Beschichtung angeboten. Die i-line Intensität ist dadurch deutlich verbessert, ebenso wie die Homogenität im fotolithographischen Prozess.

MEMS-Hersteller aufgepasst!
Besonders interessant für die MEMS-Herstellung ist ein neues Produkt von Omega: MicroChem, der Hersteller des Fotolacks SU-8, empfiehlt UV-Strahlung  unterhalb von 350 nm zu blocken, um besonders lotrechte Strukturen zu erzeugen. In diesem Zusammenhang wird der Typ PL-360-LP aus der Mask-Aligner Serie besonders empfohlen!

Datenblatt:

 Photolithography Interference Filters 754 K

Weitere Produktinformationen:
Bandpassfilter

Hersteller:
Omega Optical

Kontakt: