Fotolithografische Filter
Filter für fotolithographische Anwendungen: getunte i-line und Mask Aligner Interferenzfilter.
Filter für besondere Anwendungen
Fotolithographische Filter sind optische Filter für Anwendungen in LSI- und LCD-Steppern mit Hochleistungs-Quecksilberdampflampen. Diese Filter werden u.a. in Wafer-Steppern von Canon eingesetzt.
Funktionsweise
Die sehr schmalbandigen Bandpassfilter erzeugen eine quasi-monochromatische Strahlung. Hierdurch wird auf dem Target die bestmögliche Auflösung erreicht.
Die fotolithographischen Filter
Unser Partner Omega Optical hat sein Angebot für die i-line Bandpassfilter überarbeitet und bietet diese Filterdesigns nun auch auf Basis der Dual Magnetron Reactive Sputtering Beschichtung an. Die neue Generation i-line Filter besitzt eine deutlich verbesserte i-line Intensität und Homogenität im fotolithografischen Prozess.
Besonders interessant für die MEMS-Herstellung ist ein neues Produkt von Omega: MicroChem, der Hersteller des Photolackes SU-8 empfiehlt UV-Strahlung unterhalb von 350 nm zu blocken, um besonders lotrechte Strukturen zu erzeugen. Namentlich empfohlen wird in diesem Zusammenhang der Typ PL-360-LP von Omega aus der Mask-Aligner-Serie.
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