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New Products – Interference Filters for Photolithography


Photolithographic filters are used in applications with LSI and LCD steppers in which high-power mercury vapor lamps are used for illumination.
The very narrow-band bandpass filters produce an almost monochromatic radiation. This allows the best possible resolution to be achieved in the target.

New i-line Bandpass Filters
Our partner Omega Optical has revised its i-line bandpass filters. The filter designs are now available based on dual magnetron reactive sputtering coating. This significantly improves both the intensity of the i-line and its homogeneity in the photolithographic process.

MEMS Manufacturers Look Out!
There is one new product from Omega that is particularly interesting for MEMS production: MicroChem, the manufacturer of the SU-8 photo resist, recommends UV radiation below 350 nm to be blocked in order to produce particularly perpendicular structures. With this in mind, the PL-360-LP from the mask aligner series can be particularly recommended!


Further product information:
Filtres Passe-Bande

Omega Optical


Contact Person:    Björn Götze
Company:    Laser Components GmbH
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Interference Filters

Photolithographic filters from Omega Optical

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Claudia Michalke

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