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Filtres pour des Applications Spécifiques

Les filtres photo-lithographiques et astronomiques sont disponibles dans cette section. La gamme des différents filtres optiques disponibles est aussi étendue que les applications sont variées.

Filtres photolithographiques

Filtres pour Applications photolithographiques : Filtres Interférentiels Accordables i-line et d'Alignement de Masque

Filtres pour des Applications Spécifiques

Les filtres photolithographiques sont des filtres optiques utilisés pour applications dans des steppers LSI et LCD avec des lampes de vapeur de mercure de fortes puissances. Ces filtres sont employés, par exemple, dans des steppers pour wafers par Canon.

Principe de fonctionnement
Ces filtres passe-bande très étroits produisent un rayonnement quasi-monochromatique qui permet la meilleure résolution possible sur la cible.

Filtres photolithographiques
Notre partenaire, Omega Optical, a mis à jour sa série de filtres passe-bande i-line et offre maintenant ceux-ci avec une conception basée sur des revêtements obtenus par réactifs de pulvérisation à double magnétrons. Cette nouvelle génération des filtres i-line offre une intensité et une homogénéité sensiblement améliorées dans le processus photolithographique.

Particulièrement intéressant pour la production de MEMS, un nouveau produit par Omega : MicroChem, le fabricant du vernis photosensible SU-8, recommande de bloquer le rayonnement UV en-dessous de 350 nm afin de produire des structures particulièrement perpendiculaires. Dans ce contexte, ils ont spécifiquement recommandé le PL-360-LP d’Omega de la série de dispositif d'alignement de masque.

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Björn Götze

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