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Neue Produkte – Interferenzfilter für die Fotolithographie

Photonics News 61

D61-185

Fotolithographische Filter kommen bei Anwendungen in LSI und LCD Steppern zum Einsatz, bei denen Hochleistungs-Quecksilberdampflampen für die Belichtung eingesetzt werden. Die sehr schmalbandigen Bandpassfilter erzeugen eine quasi-monochromatische Strahlung. Hierdurch wird auf dem Target die bestmögliche Auflösung erreicht.

Neue i-line Bandpassfilter
Unser Partner Omega Optical hat seine i-line Bandpassfilter überarbeitet. Die Filterdesgins werden nun auch auf Basis der Dual Magnetron Reactive Sputtering Beschichtung angeboten. Die i-line Intensität ist dadurch deutlich verbessert, ebenso wie die Homogenität im fotolithographischen Prozess.

MEMS-Hersteller aufgepasst!
Besonders interessant für die MEMS-Herstellung ist ein neues Produkt von Omega: MicroChem, der Hersteller des Fotolacks SU-8, empfiehlt UV-Strahlung  unterhalb von 350 nm zu blocken, um besonders lotrechte Strukturen zu erzeugen. In diesem Zusammenhang wird der Typ PL-360-LP aus der Mask-Aligner Serie besonders empfohlen!


Weitere Produktinformationen:
Bandpassfilter

Hersteller:
Omega Optical

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Firma:    Laser Components Germany GmbH
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Interferenzfilter


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