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Filter für besondere Anwendungen

Nicht nur fotolithographische und astronomische Filter finden Sie in dieser Rubrik. So variationsreich die Anwendungen sind, so vielfältig sind die verschiedenen optischen Filter.

Fotolithografische Filter

Filter für fotolithographische Anwendungen: getunte i-line und Mask Aligner Interferenzfilter.

Filter für besondere Anwendungen

Fotolithographische Filter sind optische Filter für Anwendungen in LSI- und LCD-Steppern mit Hochleistungs-Quecksilberdampflampen. Diese Filter werden u.a. in Wafer-Steppern von Canon eingesetzt.

 

Funktionsweise

Die sehr schmalbandigen Bandpassfilter erzeugen eine quasi-monochromatische Strahlung. Hierdurch wird auf dem Target die bestmögliche Auflösung erreicht.

Die fotolithographischen Filter

Unser Partner Omega Optical hat sein Angebot für die i-line Bandpassfilter überarbeitet und bietet diese Filterdesigns nun auch auf Basis der Dual Magnetron Reactive Sputtering Beschichtung an. Die neue Generation i-line Filter besitzt eine deutlich verbesserte i-line Intensität und Homogenität im fotolithografischen Prozess.

Besonders interessant für die MEMS-Herstellung ist ein neues Produkt von Omega: MicroChem, der Hersteller des Photolackes SU-8 empfiehlt UV-Strahlung unterhalb von 350 nm zu blocken, um besonders lotrechte Strukturen zu erzeugen. Namentlich empfohlen wird in diesem Zusammenhang der Typ PL-360-LP von Omega aus der Mask-Aligner-Serie.

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Ihr Ansprechpartner

Björn Götze

+49 (0) 8142 2864-53

b.goetze@lasercomponents.com