Neue Produkte – Interferenzfilter für die Fotolithographie
D61-185
Fotolithographische Filter kommen bei Anwendungen in LSI und LCD Steppern zum Einsatz, bei denen Hochleistungs-Quecksilberdampflampen für die Belichtung eingesetzt werden. Die sehr schmalbandigen Bandpassfilter erzeugen eine quasi-monochromatische Strahlung. Hierdurch wird auf dem Target die bestmögliche Auflösung erreicht.
Neue i-line Bandpassfilter
Unser Partner Omega Optical hat seine i-line Bandpassfilter überarbeitet. Die Filterdesgins werden nun auch auf Basis der Dual Magnetron Reactive Sputtering Beschichtung angeboten. Die i-line Intensität ist dadurch deutlich verbessert, ebenso wie die Homogenität im fotolithographischen Prozess.
MEMS-Hersteller aufgepasst!
Besonders interessant für die MEMS-Herstellung ist ein neues Produkt von Omega: MicroChem, der Hersteller des Fotolacks SU-8, empfiehlt UV-Strahlung unterhalb von 350 nm zu blocken, um besonders lotrechte Strukturen zu erzeugen. In diesem Zusammenhang wird der Typ PL-360-LP aus der Mask-Aligner Serie besonders empfohlen!
Weitere Produktinformationen:
Bandpassfilter
Hersteller:
Omega Optical
Kontakt:
Ansprechpartner: | Björn Götze |
Firma: | Laser Components Germany GmbH |
Adresse: | Werner-von-Siemens-Str. 15 |
PLZ / Ort: | 82140 Olching |
Telefon: | +49 (0) 8142 2864-53 |
Fax: | +49 (0) 8142 2864-11 |
E-Mail: | bjoern.goetze@lasercomponents.com |
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